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【图文导读】图1.实验流程与样品示意图a）热沉积生长非晶Bi0.5Sb1.5Te3 薄膜的过程示意图b）热沉积的非晶Bi0.5Sb1.5Te3 薄膜由密集排列的纳米线阵列组成c）最初的非晶Bi0.5Sb1.5Te3 薄膜经过不同温度退火后有不同的结晶度示意图图2.薄膜XRD与扫描分析a）不同温度下退火的Bi0.5Sb1.5Te3 薄膜的XRD图谱b）不同温度下退火的Bi0.5Sb1.5Te3 薄膜的结晶度分析c）300K退火Bi0.5Sb1.5Te3 薄膜的SEM俯视图d）300K退火Bi0.5Sb1.5Te3 薄膜的SEM侧视图图3.薄膜TEM分析最初沉积的（300K退火）的Bi0.5Sb1.5Te3 薄膜的a）低倍TEM，山东寿光蔬菜b）高分辨TEM和c）选区衍射TEM。着力做好o字（b-c）阳离子无序Li1.3Ni0.27Ta0.43O2材料的原位XRD图谱和相应的Rietveld精修结果。

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